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製品

  • ST.CERA社製カスタム半導体製造装置用セラミックチャック

    ST.CERA社製カスタム半導体製造装置用セラミックチャック

    半導体分野における重要なプロセスはクリーンルームで行う必要があり、特に高温、真空、腐食性ガスといった過酷な環境下で使用されるデバイスの場合はなおさらです。セラミックスは、複雑な物理的・化学的環境下でも高い安定性を維持できます。

  • ST.CERA社製カスタム半導体製造装置用セラミックプレート

    ST.CERA社製カスタム半導体製造装置用セラミックプレート

    半導体分野における重要なプロセスはクリーンルームで行う必要があり、特に高温、真空、腐食性ガスといった過酷な環境下で使用されるデバイスの場合はなおさらです。セラミックスは、複雑な物理的・化学的環境下でも高い安定性を維持できます。

  • ST.CERA社製カスタム半導体セラミックフォーカスリング

    ST.CERA社製カスタム半導体セラミックフォーカスリング

    半導体分野における重要なプロセスはクリーンルームで行う必要があり、特に高温、真空、腐食性ガスといった過酷な環境下で使用されるデバイスの場合はなおさらです。セラミックスは、複雑な物理的・化学的環境下でも高い安定性を維持できます。

  • ST.CERA製カスタム99.5%アルミナセラミックローダーアーム

    ST.CERA製カスタム99.5%アルミナセラミックローダーアーム

    セラミック製エンドエフェクタ/ハンドリングアームは、ウェハ搬送ロボットまたは「エンドエフェクタ」に取り付けられ、シリコンウェハをカセットやプロセスチャンバーに出し入れするために使用されます。
    セラミックを使用する利点は、高い曲げ強度によるたわみの低減、高温への耐性、金属汚染や粒子の除去などである。

  • ST.CERA社製カスタムアルミナセラミックエンドエフェクター

    ST.CERA社製カスタムアルミナセラミックエンドエフェクター

    ST.CERAは、高純度アルミナ粉末から作られ、冷間静水圧プレス、高温焼結、精密仕上げ加工されたESDコーティングおよびESDセラミック材料エンドエフェクタを提供しています。寸法公差は±0.001 mm、表面仕上げRa 0.1、耐熱温度1600℃を実現できます。

  • ST.CERA社製カスタム半導体セラミックフォーカスリング

    ST.CERA社製カスタム半導体セラミックフォーカスリング

    高純度(99.5%以上)のアルミナセラミックを冷間静水圧プレス成形し、高温で焼結した後、精密機械加工と研磨を施したセラミック製スペアパーツは、耐摩耗性、耐腐食性、低熱膨張性、絶縁性といった特性を備え、半導体製造装置の厳しい要求にも応えることができます。

    セラミックは、耐高温性、耐腐食性、耐摩耗性、絶縁性といった特性を備えているため、高温、真空、腐食性ガスといった条件下でも、多くの種類の半導体製造装置で長期間使用することができます。

    高純度アルミナ粉末を原料とし、冷間静水圧プレス、高温焼結、精密仕上げ加工を施すことで、寸法公差±0.001mm、表面粗さRa 0.1、耐熱温度1600℃を実現しています。

  • ST.CERA社製カスタム半導体精密アルミナセラミックブッシング

    ST.CERA社製カスタム半導体精密アルミナセラミックブッシング

    高純度(99.5%以上)のアルミナセラミックを冷間静水圧プレス成形し、高温で焼結した後、精密機械加工と研磨を施したセラミック製スペアパーツは、耐摩耗性、耐腐食性、低熱膨張性、絶縁性といった特性を備え、半導体製造装置の厳しい要求にも応えることができます。

    セラミックは、耐高温性、耐腐食性、耐摩耗性、絶縁性といった特性を備えているため、高温、真空、腐食性ガスといった条件下でも、多くの種類の半導体製造装置で長期間使用することができます。

    高純度アルミナ粉末を原料とし、冷間静水圧プレス、高温焼結、精密仕上げ加工を施すことで、寸法公差±0.001mm、表面粗さRa 0.1、耐熱温度1600℃を実現しています。

  • ST.CERA社製カスタムアルミナセラミック真空エンドエフェクター

    ST.CERA社製カスタムアルミナセラミック真空エンドエフェクター

    これは、真空環境下で使用されるトレイ型セラミック製エンドエフェクタ/ハンドリングアームです。

    セラミック製エンドエフェクター/ハンドリングアームは、金属製のものと比較して、「耐熱性が高く」、「たわみが少なく」、「軽量」です。

    セラミックは、耐高温性、耐腐食性、耐摩耗性、絶縁性といった特性を備えているため、高温、真空、腐食性ガスといった条件下でも、多くの種類の半導体製造装置で長期間使用することができます。

    高純度アルミナ粉末を原料とし、冷間静水圧プレス、高温焼結、精密仕上げ加工を施すことで、寸法公差±0.001mm、表面粗さRa 0.1、耐熱温度1600℃を実現しています。

  • ST.CERA社製、99.5%アルミナセラミックチューブおよびセラミックロッド(カスタマイズ品)

    ST.CERA社製、99.5%アルミナセラミックチューブおよびセラミックロッド(カスタマイズ品)

    セラミックは、耐高温性、耐腐食性、耐摩耗性、絶縁性といった特性を備えているため、高温、真空、腐食性ガスといった条件下でも、多くの種類の半導体製造装置で長期間使用することができます。

    高純度アルミナ粉末を原料とし、冷間静水圧プレス、高温焼結、精密仕上げ加工を施すことで、寸法公差±0.001mm、表面粗さRa 0.1、耐熱温度1600℃を実現しています。

  • ST.CERA社製カスタムアルミナセラミックエンドエフェクターウェハハンドリング

    ST.CERA社製カスタムアルミナセラミックエンドエフェクターウェハハンドリング

    ST.CERAは、ESDコーティングを施したESDセラミック素材のエンドエフェクター/ハンドリングアームを提供しています。このエンドエフェクター/ハンドリングアームは、中空チャネルを内蔵しています。当社は、接着剤を使用せずに、一枚の材料内部に真空エアチャネルを形成する技術を専門としています。
    汚染物質、ガス放出、粒子発生のリスクはありません。ST.CERAの特殊コーティング技術を採用した真空エンドエフェクター/ハンドリングアームは、電気絶縁性を備えています。また、コーティングなしで電気絶縁性を備えたESDセラミック材料もご提供可能です。
    高純度アルミナ粉末を原料とし、冷間静水圧プレス、高温焼結、精密仕上げ加工を施すことで、寸法公差±0.001mm、表面粗さRa 0.1、耐熱温度1600℃を実現しています。

  • アルミナセラミック製エンドエフェクタ半導体製造装置部品

    アルミナセラミック製エンドエフェクタ半導体製造装置部品

    ウェーハの搬送中、またはエンドエフェクタ/ハンドリングアームとの接触中に、ベベルや角度のついたエッジ、および裏面から発生する可能性のある粒子を防止する。

    ガイド部には、ウェハーを傷つけない柔らかい素材を採用した。

    ST.CERAの接着剤を使用しない内蔵型真空チャネル技術により、薄膜化が可能になります。

    エンドエフェクタ/ハンドリングアームがロボットに取り付けられるベース部分に、取り付け穴を開けたり、長さや幅を変更したりすることが可能です。

    センサーの取り付けに必要なネジやブラケットはオプションでご用意しております。

    大気中での使用を想定して設計されています。

  • St.CeraセラミックエンドエフェクターのカスタムCNC加工

    St.CeraセラミックエンドエフェクターのカスタムCNC加工

    ST.CERAは、中空チャネルを内蔵した真空セラミック製エンドエフェクター/ハンドリングアームを提供しています。当社は、接着剤を使用せずに単一の材料内部に真空エアチャネルを形成する技術を専門としています。

    汚染物質、ガス放出、粒子発生のリスクはありません。ST.CERAの真空エンドエフェクター/ハンドリングアームは、内蔵チャンネルを備え、耐久性に優れ、高温環境下でも使用可能です。さらに、不要な組み立て工程を排除することで、製造コストの削減にも貢献します。

    高純度アルミナ粉末を原料とし、冷間静水圧プレス、高温焼結、精密仕上げ加工を施すことで、寸法公差±0.001mm、表面粗さRa 0.1、耐熱温度1600℃を実現しています。