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CVD/PVDプロセスチャンバー用高純度アルミナセラミックリング

CVD/PVDプロセスチャンバー用高純度アルミナセラミックリング

簡単な説明:

St.Ceraのセラミックリングは、CVD(化学気相成長法)およびPVD(物理気相成長法)プロセスチャンバーでの使用を想定して特別に設計されています。純度99.8%の高純度アルミナ(Al₂O₃)から製造されたこのリングは、チャンバーライナー、フォーカスリング、またはプロセスキットのコンポーネントとして機能し、プラズマを閉じ込め、チャンバー壁を侵食から保護します。この材料は、優れた耐プラズマ性、高い絶縁耐力(15×10⁶ V/m)、および1600℃までの熱安定性を備えており、腐食性の高いフッ素系プラズマ環境でも長寿命を実現します。精密な寸法公差(内径/外径±0.05 mm)と平面度(≤10 μm)により、ウェーハ端の位置決めが安定し、成膜の均一性が向上し、粒子発生が低減されます。


製品詳細

商品タグ

St.Ceraのセラミックリングは、CVD(化学気相成長法)およびPVD(物理気相成長法)プロセスチャンバーでの使用を想定して特別に設計されています。純度99.8%の高純度アルミナ(Al₂O₃)から製造されたこのリングは、チャンバーライナー、フォーカスリング、またはプロセスキットのコンポーネントとして機能し、プラズマを閉じ込め、チャンバー壁を侵食から保護します。この材料は、優れた耐プラズマ性、高い絶縁耐力(15×10⁶ V/m)、および1600℃までの熱安定性を備えており、腐食性の高いフッ素系プラズマ環境でも長寿命を実現します。精密な寸法公差(内径/外径±0.05 mm)と平面度(≤10 μm)により、ウェーハ端の位置決めが安定し、成膜の均一性が向上し、粒子発生が低減されます。

 

仕様(99.8% Al₂O₃に基づく):

財産 価値
材料 99.8%アルミナ(アイボリー)
密度 3.93 g/cm³
吸水率 0%
曲げ強度 361 MPa
破壊靭性 3~4 MPa·m¹/²
ビッカース硬度 16 GPa
ヤング率 380 GPa
熱伝導率 32 W/m·k
熱膨張(25~1000℃) 7.2×10⁻⁶/℃
誘電強度 15×10⁶ V/m
特定抵抗 >10¹⁴ Ω·cm
最大動作温度 1600℃

 

アプリケーション:

  • ・CVDチャンバーのフォーカスリングとエッジリング
  • ・PVDチャンバーシールドリングおよびクランプリング
  • ・エッチングチャンバーライナーおよびカバーリング
  • ・誘電体エッチングシステムにおけるプラズマ閉じ込めリング

 

製造工程:

静水圧プレス → グリーン加工 → 1600℃での焼結 → CNC内径/外径研削 → 表面ラッピング → 超音波洗浄 → 100% CMM検査。超平滑な表面仕上げ(Ra ≤0.4 μm)により、粒子付着を最小限に抑えます。

 

品質管理:

  • ・寸法検査(内径、外径、厚さ、平面度)100%実施
  • ・表面の微細亀裂を検出するための浸透探傷検査
  • ・ASTM D149に基づく絶縁耐力試験
  • ・20倍の顕微鏡下では、目立った変色や多孔性は見られない。

 

金属製またはクォーツ製の指輪に対する利点:

  • ・フッ素プラズマ中におけるアルミニウムリングの5~10倍の長寿命
  • ・薄膜に金属汚染がない
  • ・石英よりもプラズマ耐性が高い(浸食ピットが発生しない)
  • ・長期間使用後も10¹⁴Ω・cm以上の電気絶縁性を維持します。

 

代替材料 — 窒化ケイ素(SiN):

さらに高い破壊靭性(6.2 MPa·m¹/²)と優れた耐熱衝撃性(膨張係数3.2×10⁻⁶/℃)が求められる用途には、Si₃N₄リングもご用意しております。ただし、ほとんどのCVD/PVD用途ではアルミナの方がコスト効率に優れています。ご注文の際は、ご希望の材質をご指定ください。

 

カスタマイズ:

  • ・取り付け用の貫通穴、段付き形状、または座ぐり穴
  • ・耐プラズマ性を向上させるためのY₂O₃コーティング表面(オプション)
  • ・部品番号/ロットコードのレーザー刻印

 

注記:上記のデータは、提供されているAl₂O₃の特性表に厳密に従っています。Si₃N₄リングについては、別途提供されているSi₃N₄データシートを参照してください。


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