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セラミックロッド

  • 精密セラミックロッドは高圧と摩耗に強い

    精密セラミックロッドは高圧と摩耗に強い

    高純度セラミック粉末を原料とし、乾式プレスまたは冷間静水圧プレスによって成形されたセラミックロッドを、高温下で焼結後、精密加工します。耐摩耗性、耐腐食性、高硬度、高靭性、低摩擦係数など多くの利点を持ち、医療機器、精密機械、レーザー、計測機器、検査機器などに幅広く使用されています。酸性およびアルカリ性の環境下でも長時間使用でき、最高使用温度は1600℃に達します。

     

  • 精密セラミック絶縁アルミナセラミックロッド

    精密セラミック絶縁アルミナセラミックロッド

    高純度セラミック粉末を原料とし、乾式プレスまたは冷間静水圧プレスによって成形されたセラミックロッドを、高温下で焼結後、精密加工します。耐摩耗性、耐腐食性、高硬度、高靭性、低摩擦係数など多くの利点を持ち、医療機器、精密機械、レーザー、計測機器、検査機器などに幅広く使用されています。酸性およびアルカリ性の環境下でも長時間使用でき、最高使用温度は1600℃に達します。

  • ST.CERA社製高精度カスタムアルミナセラミックロッド

    ST.CERA社製高精度カスタムアルミナセラミックロッド

    高純度セラミック粉末を原料とし、乾式プレスまたは冷間静水圧プレスによって成形されたセラミックロッドを、高温下で焼結後、精密加工します。耐摩耗性、耐腐食性、高硬度、高靭性、低摩擦係数など多くの利点を持ち、医療機器、精密機械、レーザー、計測機器、検査機器などに幅広く使用されています。酸性およびアルカリ性の環境下でも長時間使用でき、最高使用温度は1600℃に達します。

  • 精密セラミックアルミナセラミックスの耐高温性

    精密セラミックアルミナセラミックスの耐高温性

    高純度セラミック粉末を原料とし、乾式プレスまたは冷間静水圧プレスで成形後、高温で焼結し、精密加工を施したセラミック管です。耐摩耗性、耐腐食性、高硬度、高靭性、低摩擦係数など多くの利点を持ち、医療機器、精密機械、レーザー、計測機器、検査機器などに幅広く使用されています。酸性およびアルカリ性の環境下でも長時間使用でき、最高使用温度は1600℃に達します。

  • 高圧・耐摩耗性アルミナセラミックロッドセラミックプランジャー

    高圧・耐摩耗性アルミナセラミックロッドセラミックプランジャー

    高純度セラミック粉末を原料とし、乾式プレスまたは冷間静水圧プレスによって成形されたセラミックロッドを、高温下で焼結後、精密加工します。耐摩耗性、耐腐食性、高硬度、高靭性、低摩擦係数など多くの利点を持ち、医療機器、精密機械、レーザー、計測機器、検査機器などに幅広く使用されています。酸性およびアルカリ性の環境下でも長時間使用でき、最高使用温度は1600℃に達します。

  • 耐高温セラミック管および棒

    耐高温セラミック管および棒

    高純度セラミック粉末を原料とし、乾式プレスまたは冷間静水圧プレスで成形後、高温で焼結し、精密加工を施したセラミック管です。耐摩耗性、耐腐食性、高硬度、高靭性、低摩擦係数など多くの利点を持ち、医療機器、精密機械、レーザー、計測機器、検査機器などに幅広く使用されています。酸性およびアルカリ性の環境下でも長時間使用でき、最高使用温度は1600℃に達します。

  • セラミックロッドは、細かなロッドサイズをカスタマイズ可能です。

    セラミックロッドは、細かなロッドサイズをカスタマイズ可能です。

    高純度セラミック粉末を原料とし、乾式プレスまたは冷間静水圧プレスによって成形されたセラミックロッドを、高温下で焼結後、精密加工します。耐摩耗性、耐腐食性、高硬度、高靭性、低摩擦係数など多くの利点を持ち、医療機器、精密機械、レーザー、計測機器、検査機器などに幅広く使用されています。酸性およびアルカリ性の環境下でも長時間使用でき、最高使用温度は1600℃に達します。

  • アルミナセラミックシャフトスリーブ、セラミックプランジャー

    アルミナセラミックシャフトスリーブ、セラミックプランジャー

    高純度セラミック粉末から作られ、乾式プレスまたは冷間静水圧プレスによって成形されたセラミックロッドは、高温下で焼結され、その後精密機械加工されます。耐摩耗性、耐腐食性、高硬度、高靭性、低摩擦係数など多くの利点があり、医療機器、精密機械、レーザー、計測機器、検査機器に広く使用されています。酸性およびアルカリ性の条件下で長時間使用でき、最高温度は1600℃まで達します。当社が通常使用するセラミック材料は、ジルコニア、95%~99.9%アルミナ(Al2O3)、窒化ケイ素(Si3N4)、窒化アルミニウム(AlN)などです。

  • アルミナセラミックロッド半導体セラミック

    アルミナセラミックロッド半導体セラミック

    高純度セラミック粉末を原料とし、乾式プレスまたは冷間静水圧プレスによって成形されたセラミックロッドを、高温下で焼結後、精密加工します。耐摩耗性、耐腐食性、高硬度、高靭性、低摩擦係数など多くの利点を持ち、医療機器、精密機械、レーザー、計測機器、検査機器などに幅広く使用されています。酸性およびアルカリ性の環境下でも長時間使用でき、最高使用温度は1600℃に達します。